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PVD鍍膜設備

PVD鍍膜設備是一種物理沉積現象。即在真空狀态下注入氩氣,氩氣樁基靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。


産品說明
技術參數
樣品圖片
産品說明

PVD鍍膜設備是一種物理沉積現象。即在真空狀态下注入氩氣,氩氣樁基靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。

PVD鍍膜設備常見的有多弧離子鍍膜設備,直流磁控濺射鍍膜設備,中頻磁控濺射鍍膜設備等.

類型設備是一種高效、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生産量大的優點。

   PVD鍍膜機是一種高效、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生産量大的優點。

設備型号

DK-1000

DK-1150

DK-1200

DK-1600

真空室尺寸

1000×1200

1200×1400

1400×1600

1600×1800

1600×2200

制膜種類

金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金剛石膜、金屬裝飾膜等

電源類型

直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源

靶類型

多弧靶,選配中頻孿生柱靶或平面靶

真空室結構

立式前開門結構(雙層水套式或水槽式冷卻)、後置抽氣系統

真空系統

機械泵+羅茨泵+擴散泵/分子泵+維持泵

加熱系統

常溫至350度可調可控(PID控溫),不繡鋼加熱管加熱

充氣系統

質量流量控制儀(1-4路)

極限真空

6×10-4pa(空載、淨室)

抽氣時間

空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘

保壓率

1h≤0.6pa

工件旋轉方式

上旋轉或下旋轉+公自轉變頻無級可控可調,0-20轉/分

控制方式

手動+半自動/觸摸屏+PLC

備注

真空室尺寸可按客戶産品及特殊工藝要求訂做



技術參數

設備型号

DK-1000

DK-1150

DK-1200

DK-1600

真空室尺寸

1000×1200

1200×1400

1400×1600

1600×1800

1600×2200

制膜種類

金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金剛石膜、金屬裝飾膜等

電源類型

直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源

靶類型

多弧靶,選配中頻孿生柱靶或平面靶

真空室結構

立式前開門結構(雙層水套式或水槽式冷卻)、後置抽氣系統

真空系統

機械泵+羅茨泵+擴散泵/分子泵+維持泵

加熱系統

常溫至350度可調可控(PID控溫),不繡鋼加熱管加熱

充氣系統

質量流量控制儀(1-4路)

極限真空

6×10-4pa(空載、淨室)

抽氣時間

空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘

保壓率

1h≤0.6pa

工件旋轉方式

上旋轉或下旋轉+公自轉變頻無級可控可調,0-20轉/分

控制方式

手動+半自動/觸摸屏+PLC

備注

真空室尺寸可按客戶産品及特殊工藝要求訂做


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