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多弧離子鍍膜設備

該設備是一種高效、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生産量大的優點。


産品說明
技術參數
樣品圖片
産品說明

該設備是一種高效、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生産量大的優點。

   五金裝飾膜離子鍍膜機是一種高效、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生産量大的優點。

      真空電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發、電離鍍料,結合脈沖偏壓技術,提高沉積粒子能量和活性,增強膜層的各項性能。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜;可以鍍金屬膜,氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜,還可以鍍氮化钛摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應用于工具、模具的超硬塗層,汽車輪毂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾塗層等領域。


技術參數

 

設備型号

DK-1000

DK-1150

DK-1200

DK-1600

真空室尺寸

1000×1200

1100×1200

1200×1400

1600×1800

1600×2200

制膜種類

金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金剛石膜、金屬裝飾膜等

電源類型

直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源

靶類型

多弧靶,選配中頻孿生柱靶或平面靶

真空室結構

立式前開門結構(雙層水套式或水槽式冷卻)、後置抽氣系統

真空系統

機械泵+羅茨泵+擴散泵/分子泵+維持泵

加熱系統

常溫至350度可調可控(PID控溫),不繡鋼加熱管加熱

充氣系統

質量流量控制儀(1-4路)

極限真空

6×10-4pa(空載、淨室)

抽氣時間

空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘

保壓率

1h≤0.6pa

工件旋轉方式

上旋轉或下旋轉+公自轉變頻無級可控可調,0-20轉/分

控制方式

手動+半自動/觸摸屏+PLC

備注

真空室尺寸可按客戶産品及特殊工藝要求訂做


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