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漸變膜鍍膜設備

該設備是漸變膜專用鍍膜設備,該設備是用磁控濺射的原理在産品上面沉積一層漸變色的膜系,一改傳統的光學鍍膜的方式,具有膜層牢固,膜系穩定,大大提高生産效率等優點。

目前該設備主要應用于手機外殼,平闆玻璃,柔性材料等領域。


産品說明
技術參數
樣品圖片
産品說明

該設備是漸變膜專用鍍膜設備,該設備是用磁控濺射的原理在産品上面沉積一層漸變色的膜系,一改傳統的光學鍍膜的方式,具有膜層牢固,膜系穩定,大大提高生産效率等優點。

目前該設備主要應用于手機外殼,平闆玻璃,柔性材料等領域。


技術參數

技術參數

真空室尺寸

1200×1500mm

1400×1600mm

1600×1800mm

1800×2200mm

2000×1950mm

制膜種類

半透明膜、金、銀、紅、藍、綠、灰、黑、七彩等多種顔色的漸變膜系

電源類型

磁控濺射電源、離子源電源

真空室結構

立式雙開門、立式單開門、抽氣系統

真空系統

機械泵+羅茨泵+擴散泵/分子泵+維持泵(或選配:深冷系統)

極限真空

8×10-4 pa(空載、淨室)

抽氣時間

空載大氣抽至5×10-2pa小于10分鐘

工件旋轉方式

6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速

控制方式

手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC

備注

真空室尺寸可按客戶産品及特殊工藝要求訂做


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