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真空式等離子表面處理設備

         真空式等離子表面處理設備

名稱(Name

真空式等離子處理系統

型号(Model

DK-40L

控制系統(Control system

PLC+觸摸屏

電源(Power supply

380V/AC,50/60Hz,3kw

射頻電源功率(RF Power

500W/13.56MHz

容量(Volume

80L(Option)

層數(Electrode of plies

8(Option)

有效處理面積(Area

400L*300W)(Option

氣體通道(Gas

兩路工作氣體可選: ArN2H2CF4O2



超大處理空間,提升處理産能,采用PLC+觸摸屏控制系統,精确的控制設備運行。
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數,滿足客戶的需求。
保養維修成本低,便于客戶成本控制。
高精度,快響應,良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業的技術支持。
途:适用于印制線路闆行業,半導體IC領域,矽膠、塑膠、聚合體領域,汽車電子行業,航空工業等。印制線路闆行業:高頻闆表面活化,多層闆表面清潔、去鑽污,軟闆、軟硬結合闆表面清潔、去鑽污,軟闆補強前活化。半導體IC領域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;矽膠、塑膠、聚合體領域:矽膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化



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